设备和技术发展里程碑
2000 – 2025
2025
建成印度 Faridabad 涂层能力中心。开发 H2 型 HIPIMS 镀膜机，具备阴极电弧级别的镀膜速度。研发并获得专利的超快速 JVAD PVD 技术，用于替代有害的湿法化学电镀。
2024
建成桐乡涂层中心，专注锂电池。开发 R650 型 R2R 镀膜机，采用高功率电子束枪，用于锂电池；开发 RX300 型 R2R 镀膜机，用于纯锂镀膜。
2023
建成东莞第三个工厂，全球首个技术装饰 PVD 涂层中心。开发 D1900 型技术装饰 PVD 镀膜机。
2020
开发 UFC 电弧源。开发 H450 型 HiPIMS 镀膜机。
2019
开发 M850 型复合镀膜机，配 CVC 电弧源。开发 F600 型大容积过滤弧镀膜机。推出 ta-C 涂层，Ra<0.02。
2017
建成烟台涂层中心。开发 P1200 型 MS+PECVD DLC 零部件镀膜机。开发 P1700 型，全球首台用于锂电池极片模具的 PVD 镀膜机。
2015
建成襄樊与东莞热处理及 PVD 涂层中心，面向模具。K680 等离子氮化+PVD 复合镀膜机。推出 CrAlN 涂层。
2013
开发 K600 型矩形平面电弧镀膜机，采用 AEGD 技术。
2011
建成成都涂层中心。韩国 PVD 设备工厂开业。
2009
建成重庆与西安涂层中心。开发 NT230 型，中国首台 HCD+电弧镀膜机。
2007
建成常州与台州涂层中心。推出 TiAlSiN 涂层，用于硬质合金刀具。
2005
建成中国首个刀具 PVD 研发中心及嘉兴第二个涂层中心。开发 NT1000 型固定磁阴极电弧镀膜机，推出 TiAlN 涂层，用于滚刀。
2004
东莞工厂从寮步扩展到大朗。开发 NT200 型，全球首台卧式 HCD+磁控溅射镀膜机。推出中国首个 TiN+WCC 无液滴涂层，用于丝锥。
2002
PVD HCD 技术获专利。在东莞建成中国首个刀具涂层工厂。开发 NT100 型大批量 HCD 无液滴 TiN 镀膜机。
2000
纳狮控股公司 Nano Technology Corporation 成立。
术语： HCD，空心阴极放电。MS，磁控溅射。CVC，连续变磁场电弧阴极。AEGD，电弧增强辉光放电。UFC，超细电弧阴极。R2R，卷对卷。JVAD，喷射气相激活沉积。