拿騷 PVD 鍍膜及真空鍍膜設備

濺鍍技術

磁控濺射陰極

優點

  • 高動態沉積
  • 速率 (DDR)
  • 目標利用率高
  • 最佳化的均勻性
  • 易於維護

電弧陰極

DLC 塗層
電弧離子電鍍

  • 線性電弧陰極
  • 圓弧陰極

電弧陰極是 DLC 和電弧離子電鍍系統的關鍵元件。電弧陰極是DLC及電弧離子電鍍系統的關鍵元件,透過最佳化的設計,可提高並最大化靶材利用率及產能。拿騷執行模擬磁場、設計等工作,以提供客戶最佳化的解決方案。

離子源

預處理
協助
DLC

  • 線性離子源

離子源是電漿剝離製程的關鍵元件,可加速離子到達基材,產生物理/化學反應,活化基材表面以改善附著力。
Naxau 透過自己的設計,提供表面預處理所需的客製化解決方案。

射頻 ICP 等離子源

PECVD
PVD
抗蝕刻
清潔與啟動
PALD - 協助

  • 圓形來源
  • 線性來源
  • 戒指來源
  • 內建來源

電弧陰極是 DLC 和電弧離子電鍍系統的關鍵元件。電弧陰極是DLC及電弧離子電鍍系統的關鍵元件,透過最佳化的設計,可提高並最大化靶材利用率及產能。拿騷執行模擬磁場、設計等工作,以提供客戶最佳化的解決方案。

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