PVD 鍍膜設備

拿騷 PVD 鍍膜及真空鍍膜設備

PVD 鍍膜設備

M850 PVD

規格

均一性 : ± 15%
塗層時間：1H
薄膜：TiN、TiAlN、AlCrN、TiAlSiN、AlCrSiN 等。
脈衝直流偏壓
平面與圓弧
特殊高溫加熱器：60KW
最大負載 : 800Kg
軸數：12 軸
塗層區 : ф 680 x 850H

產量(樣品)

型號	插入	ENDMILL
型號	SPCN12	D7.6 x L45	D7.6 x L65
MX850	3,024 件	576 件	432 件
MX680	6,720 件	1,440 件	1,200 件

P600 PeCVD

規格

均一性 : ± 15%
塗層時間：1H
薄膜：TiN、TiAlN、AlCrN、TiAlSiN、AlCrSiN 等。
脈衝直流偏壓
平面與圓弧
特殊高溫加熱器：60KW
最大負載 : 500Kg
軸數：8 軸
塗層區 : ф 680 x 600H

MCK 2000

適用於大量生產的混合鍍膜設備（離子源、濺鍍、電弧）

規格

均一性 : ± 15%
循環時間 : 5-7 小時
薄膜：TiN、CrN、TiAlN、DLC 等。
高溫加熱器 : 60KW
最大負載 : 1,000Kg
軸數：10 軸
塗層區 : ф 900 x 2,000H

MCK 850

陶瓷與加熱塊塗佈機。

規格

均一性 : ± 10%
循環時間 : 6-7 小時
薄膜：TiN，α塗層
脈衝直流偏壓
平面濺鍍與旋轉濺鍍
離子槍蝕刻
特殊高溫加熱器 : 36KW
最大負載 : 300Kg
軸數 : 6 軸
塗層區 : ф 860 x 400H