Naxau PVD 真空鍍膜設備的優勢

Naxau P/M 系列 PVD 真空鍍膜設備具有高度的靈活性，可提供客製化的鍍膜解決方案，滿足大多數中高端切削工具和模具鍍膜的需求。設備可持續升級，滿足5G、智能化等新材料、新應用的需求。

IET 等離子蝕刻系統

IET 等離子清洗系統可確保塗層在有效區域內均勻蝕刻，蝕刻速率為 0.25um/h。

SPARK 低液滴技術

先進的 SPARK 技術可有效減少塗層液滴，滿足單層、多層及奈米塗層生產的需求。

軟體硬體加速加速，降低營運成本

軟硬體加速降低操作成本，完成 3μm TiAlN 的參考鍍膜時間少於 5 小時。該設備具有單鍵操作、多種夾具、磁懸浮分子泵、兩套 IET 清潔系統、高功率加熱器、電弧陰極、流量計和專用控制系統等優點，可高效率加工傳統切削工具和模具。該設備的真空度由磁懸浮式分子泵維持，最大電流為 250A，並配備八台大功率加熱器，總功率為 48KW。八至十個電弧陰極可大幅提高鍍膜沉積率。四組流量計與專用控制系統確保生產效率，並採用氮氣與可調溫高純度冷卻水進行大型工件的雙循環快速冷卻。