高功率非滴液型高亮度電弧 PVD 真空設備及先進模具鍍膜解決方案

拿騷Spark高光弧技術廣泛應用於3C高光刀鍍膜。與傳統的濾波電弧多弧離子電鍍，甚至最新的Hipims高頻磁控濺鍍相比，可大幅減少液滴與膜層缺陷。

01 一般 PVD 設備製程比較

Naxau Spark 的無液滴技術取得了新的突破：

以 TiN 鍍層為例，厚度為 2.5um，沉積速率為 0.5um/h，Ra <0.05um，硬度為 34Gpa。

納克梭無液滴鍍膜 多弧離子電鍍 磁控濺鍍 納克梭 Spark 高光澤電弧 目標材料受限 高表面粗糙度 > Ra0.2 高電離率 > 60% 高沉積速率 > 1um/h 豐富濺鍍材料 低表面粗糙度 Ra0.05 低電離率 20%-40% 低沉積速率 0.35um/h 豐富濺鍍材料 低表面粗糙度 90% 低沉積速率 0.5um/h

02 高光弧技術的特點

高光澤電弧塗層：塗層更堅硬，液滴更少

高光澤電弧塗層：降低表面粗糙度，可減少表面濕潤，達到防黏效果。

高光澤電弧塗層：塗層液滴更少、缺陷更少、塗層更致密。

03 那邵高光弧真空鍍膜設備

拿騷PVD、PECVD、DLC製程真空鍍膜設備適用於工具鍍膜、模具鍍膜、零件鍍膜、醫療生物鍍膜。提供整廠軟硬體輸出的交鑰匙解決方案，並提供「伴隨式」服務，真正幫助客戶用得好、用得起真空鍍膜設備。

M850 高光弧設備

04 高光澤電弧工具 Ta-c 塗層應用

使用Ta-C塗層可有效提高切削工具的使用壽命，降低加工成本，提高產品品質。