拿騷 PVD 鍍膜及真空鍍膜設備

反應式氣體控制系統

FloTron

FloTron™ 會持續監控真空室中的等離子狀態,並在任何不穩定狀態發生時控制反應氣體以穩定製程。

精準的等離子分析及製程資訊可快速執行,透過可靠且精準的控制機制達到穩定的量產。

為何選擇 FloTron™

| 經驗證的控制系統

  • FloTron™ 硬體和軟體已針對實際工業環境和流程進行最佳化,非常堅固穩定。
  • FloTron™ 監控真空室狀態和等離子體,使製程操作非常快速且可控。

| 技術支援

  • 我們提供包括製程知識和技術在內的諮詢服務,幫助客戶穩定運行塗佈機並優化所需的製程。

優勢

  • 精確的電漿控制與製程最佳化。
  • 提高生產力和目標利用率,幫助客戶降低擁有成本和生產成本。
  • 將製程中的電弧減至最低。
  • 產生穩定的電漿。

特點

  • 提供 3、5、7 頻道以滿足不同客戶的需求
  • 感測器與驅動器的良好組合
  • 可記錄製程資料
  • 提供多種介面:數位、類比、PROFIBUS、PROFINET、EtherNet / IP
  • 提供遙控器

FloTron™ 規格

FloTron™ 系統尺寸359
輸出埠359
(各提供電源 (+/- 15V 或 24V)、類比 (0-5V/0-10V)、數位 (TTL) 及通訊介面)
類比輸入(BNC):0-5 或 0-10 VDC;[選購] 4-20 mA DC442 至 4
選項輸入 (SMA 905):PNT + 濾波器高達 1高達 3高達 5
- 光譜範圍和解析度200-900 奈米/ 10 奈米
光學輸入 (SMA 905):2B-PEM®11-4 (或訂製)1-4 (或訂製)
- 光譜範圍和解析度200-1040 奈米/ 0.15-6 奈米 (提供多種選項)
遠端控制與狀態指示:數位輸入/輸出 (TTL)359
控制演算法3 種專利:PID、PDF、EPD
電源提供外部 120W(最大值)電源供應器。寬電源輸入電壓 100-240VAC、50-60Hz、1.5A
GUI 相容性Windows 8 或 10。需要 Java Runtime Environment 8 (JRE 8)
GUI 電腦需求[min] CPU:雙核心 i3,3Ghz,記憶體:4GB,作業系統:32 或 64 位元 Windows 8 或更新版本, VGA 介面卡: 任何 [最佳] CPU:Quad-Core i7, 3.5Hz, RAM: 16GB, OS:64 位元 Windows 8 或更新版本。VGA 介面卡:GeForce 8 和 100 系列或更高版本
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