等离子源

纳克豪 PVD 涂层和真空镀膜设备

部件和零件

等离子源

磁控溅射阴极

益处

高动态沉积
速率（DDR）
目标利用率高
优化的均匀性
易于维护

电弧阴极

DLC 涂层
电弧离子镀

线性电弧阴极
圆弧阴极

电弧阴极是 DLC 和电弧离子镀系统的关键部件。通过优化设计，它能够提高并最大限度地提高靶材利用率和生产能力。纳克索公司可对磁场、设计等进行模拟，从而为客户提供优化的解决方案。

离子源

预处理
协助
DLC

线性离子源

离子源是等离子切割工艺中的关键部件，可加速离子到达基材，从而产生物理/化学反应，激活基材表面，改善附着力。
纳克绍通过自己的设计，提供表面预处理所需的定制解决方案。

射频 ICP 等离子源

PECVD
PVD
抗蚀剂蚀刻
清洁和激活
PALD - 协助

圆形源
线性源
环源
内置信号源

电弧阴极是 DLC 和电弧离子镀系统的关键部件。通过优化设计，它能够提高并最大限度地提高靶材利用率和生产能力。纳克索公司可对磁场、设计等进行模拟，从而为客户提供优化的解决方案。