纳狮 PVD/DLC 真空镀膜设备-IE
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大功率无液滴高光弧pvd真空设备与先进工模具涂层解决方案
1683纳狮Spark高光弧技术，广泛用于3C高光刀涂层应用。相较于传统的过虑弧多离子镀，甚至最新的Hipims高频磁控溅射，液滴明显及缺陷膜显著减少。 纳狮Spark无液滴技术再创新突破：以TiN 涂层为例，厚度2.5um，沉积速率0.5um/h，Ra＜0.05um，硬度34Gpa。 表面粗...
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纳狮Spark高光弧技术，广泛用于3C高光刀涂层应用。相较于传统的过虑弧多离子镀，甚至最新的Hipims高频磁控溅射，液滴明显及缺陷膜显著减少。 纳狮Spark无液滴技术再创新突破：以TiN 涂层为例，厚度2.5um，沉积速率0.5um/h，Ra＜0.05um，硬度34Gpa。 表面粗...
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纳狮是国内少数几家掌握真空镀膜技术及设备Know-How的厂家，拥有省级新材料研发实验室。纳狮掌握纳米涂层的核心关键点工艺，并可独立定制研发PECVD、PVD及ALD等多种真空镀膜系统。 布局新赛道（导电、绝缘、防腐、导热、贵金属替代与回收）。 &n...
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高阻隔膜其实早已出现在日常生活中，目前的高分子高阻隔材料主要应用于食品与药品包装、电子器件封装、太阳能电池封装、oled封装。 食品与药品包装是目前高阻隔材料应用最广的领域。主要是为了防止空气中的氧气和水蒸气进入包装中使食物和药品变质，而...
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