ta-C，低温沉积金刚石涂层

什么是ta-C金刚石涂层 #

ta-C 金刚石涂层即四面体非晶碳（tetrahedral amorphous carbon）涂层，是类金刚石涂层（DLC）的一种，属于无氢 DLC 涂层。其显微硬度可达 3000 - 8500hv。

当ta-C显微硬度超过7500HV时，其各种材料物性已经非常接近天然金刚石。我们习惯称为金刚石涂层。 有别于CVD的900℃高温高压沉积技术，纳狮离子源ta-C，可以在80℃沉积完美的金刚石涂层，高结合力且基本不受材料类型限制。

理想材料中，石墨为平面结构，100%的sp2；金刚石为立体结构，100%的sp3。而DLC为sp2和sp3的杂化物。通常说的DLC涂层，为黑灰色高sp2含量的碳膜，10-20%的含氢量。通常ta-C涂层，为sp3含量超过30%的碳膜。

纳狮金刚石涂层 #

纳狮金刚石涂层，为过虑弧技术制备的sp3含量超过80%的高硬DLC。该涂层，以通过百格测试、双85 48h测试，钢丝绒摩擦测试，腐蚀测试。可以广泛用于ITO玻璃、超导热玻璃等分金属材料改性。

ta-C膜具有高导热性，由于膜结构，个人偏向于1000W/m.k这个数值。但是依然大幅高于普通材料。

受制于涂层制备工艺和时间成本限制，PVD 无法制备厚的金刚石涂层。

低温高能的沉积方式 #

金刚石膜的生产速率r，完全由c+离子通量决定。而低温高离子能量的沉积模式，需要产生大于几毫安每平方厘米的高电流密度的电源支持。

sp3键含量，在100ev的能量下，可以获得极大值，约85%。

sp3键含量，在150℃以上下降。

纳狮弯管过滤弧技术 #

通过直管加弯管设计，可实现对等离子体中的杂质、大颗粒的高效去除，可沉积低表面粗糙度和更完美的膜材料。

因此，纳狮更广泛的使用非过滤弧的ta-C，以实现涂层品质和产能的均衡。

纳狮可实现多级弯管过滤，从而获得高度可控的低生长缺陷金刚石薄膜。对于10-20nm的超薄涂层，更低的缺陷率才能保证膜的产品良率。

ta-C的多层复合结构 #

纳狮塔-C通常为复合膜结构，有Cr、Ti等金属打底层，增加与基材结合力，ta-C：X过渡层，sp3/sp2低比例层，及sp3/sp2高比例层组成。

随着sp3含量增加，膜材料密度和压应力线性增大，需要多层结构来克服超硬膜的高应力。 如果需要做超厚的ta-C膜，则需要做ta-C：Xta-C的叠层设计。

ta-C和其它DLC涂层一样，具备高定制性。

关于ta-C超薄膜的一些测量 #

需要说明的是，目前sp3的含量为相对测试法，如拉曼测试。我们并不能很精准的测出sp3的绝对含量。

由于膜厚低于1微米，我们也不能精准的测量出ta-C金刚石膜的硬度。我们通常是根据sp3的比例推测出膜的硬度。而对于普通ta-C厚膜，我们可以直观测量出膜的显微硬度。

附着力测试 #

其它测试 #

• 5%盐雾试验：120 h
• 85双测试：48h
• 1 公斤 橡皮擦测试：5000 次
• 可见光透光性测试：90% 以上
• 细胞毒性试验：遵照iso10993-5和gb/t16886.5标准要求，采用四甲基偶氮唑盐微量酶反应比色法（mtt法）：细胞毒性为0级，其细胞毒性略低于纯钛。
• 溶血试验：依照yy/t0127.1-93标准，石墨粉组的溶血率为3.08%，为无溶血作用材料；

ta-C的应用 #

在大多数情况下，ta-C不同的厚度对应了不同的应用领域。而对于10微米以上的超厚膜，显微硬度高于3000HV，通常需要后处理。

ta-C金刚石涂层，具备以下优异的材料特性： 高导热系数 化学性能稳定 高弹性模量 高硬耐磨性 耐溅射 极高的载流子迁移率（电子和空穴）大禁带宽度 低逸出功 对紫外线敏感（吸收） 红外增透性 高电阻率红外增透性 高电阻率 高介电常数 高击穿点 无氢 超薄 负电子亲和势（宽光学带隙） 声波传播快，保真度高声波传播快，保真度高 耐热冲击 抑菌性 自洁性

纳米光学级改性膜（高透性） #

• ITO 保护膜
• 红外热成像装置窗口（ 红外增透性）
• X 射线窗口（高透、耐辐射）
• 二氧化碳激光窗口
• 高速拦截导弹头罩
• 紫外线或放射线传感器

导热膜（高导热） #

• 大功率和高频器件
• 玻璃透明导热膜
• 光电子器件散热膜
• 高频、微波器件热沉
• 温度传感器

声学 #

• 扬声器声膜
• 声表面波器件（Saw）[高频带宽度（4GHZ-6GHZ）滤波器

耐磨装饰镀 #

超硬涂层刀具 #

• PCB 板微钻和锣刀
• 12%高硅铝合金加工；铜、银、金等有色金属加工；
• 木工刀、亚克力数控刀具
• 剃须刀、薄膜切片刀
• 高端厨具刀

超硬之润滑涂层（对人体无毒副作用、生物相容性、耐磨自润滑） #

• 植入医疗器械：人工关节、义齿、牙托
• 高频电刀

零汽车配件 #

各种金刚石薄膜的特性与天然金刚石特性的比较 #

纳狮金刚石膜，为10-800nm超薄超硬（大于4000HV为超硬涂层）。

• 沉积温度：ta-C为80℃；CVD法通常为900℃以上；
• 膜厚：ta-C法通常为纳米级，金刚石法理论上无厚度限制；在微钻等刀具上，通常为5-10微米；
• 晶体结构：ta-为四面体非晶态；CVD为单晶或多晶结构。
• 硬度：cvd金刚石更硬，可以制造出无缺陷的金刚石材料
• 应用领域：ta-C通常用于超薄保护或导热，由于沉积温度低，不受基材限制，分为超薄光学改性膜及超硬自润滑改性膜。而CVD由于高温及尺寸限制，通常用于硬质合金刀具，高端装饰品等；

纳狮P系列 DLC真空镀膜设备 #

纳狮的 P 系列包括三种沉积工艺，PeCVD、离子源和复合沉积工艺。