刻蚀模块

SET 刻蚀模块

侧面氩离子体清洗系统确保涂层有效区域刻蚀均匀性为±10%， 刻蚀速率250nm/h，有效祛除基体材料表面微氧化层，增强涂层与基材结合力。

MET 刻蚀模块

通过调整阴极磁场设计，确保阴极在低电流条件下工作，控制金属刻蚀的能量。