纳狮 PVD涂层加工和真空镀膜设备

PVD 涂层设备

规格

  • 均匀性:± 15%
  • 涂层时间:1 小时
  • 薄膜:TiN、TiAlN、AlCrN、TiAlSiN、AlCrSiN 等。
  • 脉冲直流偏压
  • 平面和圆弧
  • 特殊高温加热器:60 千瓦
  • 最大负载:800 千克
  • 轴:12 个主轴
  • 涂层区:ф 680 x 850H

生产能力(样品)

模型插入终点铣削
SPCN12D7.6 x L45D7.6 x L65
MX8503 024 件576 件432 件
MX6806 720 件1 440 件1,200 件

规格

  • 均匀性:± 15%
  • 涂层时间:1 小时
  • 薄膜:TiN、TiAlN、AlCrN、TiAlSiN、AlCrSiN 等。
  • 脉冲直流偏压
  • 平面和圆弧
  • 特殊高温加热器:60 千瓦
  • 最大负载:500 千克
  • 轴:8 个主轴
  • 涂层区:ф 680 x 600H
Naxau-DLC 涂层系统

MCK 2000

用于大批量生产的混合涂层设备(离子源、溅射、电弧)

规格

  • 均匀性:± 15%
  • 循环时间:5-7 小时
  • 薄膜:TiN、CrN、TiAlN、DLC 等。
  • 高温加热器:60 千瓦
  • 最大负载:1,000 千克
  • 轴:10 个主轴
  • 涂层区:ф 900 x 2,000H

MCK 850

陶瓷和加热器块喷涂机。

规格

  • 均匀性:± 10%
  • 循环时间:6-7 小时
  • 薄膜:TiN,α 涂层
  • 脉冲直流偏压
  • 平面和旋转溅射
  • 离子枪蚀刻
  • 特殊高温加热器:36 千瓦
  • 最大负载:300 千克
  • 轴:6 个主轴
  • 涂层区:ф 860 x 400H
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