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智能引领产业升级

P 系列 DLC 真空镀膜机

产品和项目

纳克绍 P 系列 PVD 真空沉积系统基于纳克绍 SPARK 平台设计，采用了 CVC（连续可变阴极）和 UFC（超精细阴极）电弧阴极的关键技术。
高度灵活，是业内最可靠的生产设备之一。可在一台设备上复合多种等离子技术

基于 APC 电弧技术
SET 蚀刻技术
提高多层纳米复合结构涂层的电镀率

黑色装饰涂层, DLC 涂层, 绝缘涂层, PeCVD 涂层设备, 自润滑涂层

P 系列标准 DLC 真空镀膜设备

PeCVD - DLC | GLC | ta-C | DLC-x

	P850	P1200	P1600
等离子体的有效尺寸[毫米］	D680x850	D680x1200	D800x1600
负载能力 [千克］	500	800	1200
PVD 技术	CFS ® 、 PECVD	CFS ® 、 PECVD	CFS ® 、 PECVD
蚀刻技术	设置®	设置®	设置®
阴极数量	4	4	6
涂层时间 [h]	10-12h	10-12h	10-12h
涂层硬度 [hv]	1200-2500	1200-2500	1200-2500
粗糙度 Ra[um]	＜0.05	＜0.05	＜0.05
约束力 - 划痕[N］	＞30，＞20	＞30，＞20	＞30，＞20
涂层类型	Cr+W-C:H+a-C:H、Cr+WC-C:H、GLC、Al-Sn-Cu、MoS2 等。	Cr+W-C:H+a-C:H，Cr+WC-C:H，GLC，Al-Sn-Cu，MoS2	Cr+W-C:H+a-C:H，Cr+WC-C:H，GLC，Al-Sn-Cu，MoS2
足迹 DW高（毫米）	4600x2300x2000	4600x2300x2300	4600x2300x2500

下载 DLC 涂层设备目录

SET 等离子体增强技术的配置有助于 C2H2、CH4 等碳源气体的解离，并有助于制备低摩擦系数、高硬度、低 a-C:H、a-C:Si DLC 涂层和 WCC 涂层。

特点

4 用于制备氮化物和碳化物薄膜的磁控溅射阴极
可配置非平衡封闭磁场。采用高密度、低能量轰击离子进行沉积镀膜，具有良好的镀膜密度、低柱状晶体结构和低内应力。
离子束增强型 PECVD 技术实现更快沉积速率的碳薄膜
垂直装载，产品装载更方便
高性能 UBM 溅射源
灯丝氩离子蚀刻源
涡轮分子泵*2

硬件

德国 PC 智能系统
触摸屏控制
数据记录和实时显示工艺参数和流量
自动过程控制
远程诊断和维护
访问数字管理系统

可高度定制的 DLC 膜系统 - 参数可调

自然界中最硬的物质是金刚石（sp3 键），而石墨（sp2 键）是最软的物质之一。DLC 是一种混合了 sp3 键和 sp2 键的类金刚石无定形碳基材，SP3 键越多，DLC 越硬，反之则越软。DLC 涂层通常用于高硬度和自润滑、耐腐蚀、绝缘、吸光等工况。为了实现更多样化的功能要求，掺入其他元素（如 Si、F、B、W、Ta 等）可实现超润滑、耐高温、抗粘连、减少应力等多种用途。

溅射涂层行业应用

注塑螺杆 - 注塑模具涂层
- 涂层方案氮化铬 | 镜面氮化钛 | DLC | 铝钛
表面硬度：2000HV 涂层厚度：0.01-0.02mm 耐磨性：★★★★ 耐腐蚀性：★★★★★ 抗粘性：★★★★适用工况：高速、高压、粘性材料；用于透光性、耐磨性、耐化学腐蚀性、耐腐蚀性、耐...
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CVD 涂层服务
- 目录CVD 涂层服务
CVD 只适用于耐高温材料，与 PVD 涂层一样，基材表面必须光滑、无油污和锈迹，以确保涂层的结合。,
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吸光、耐高温的金属陶瓷涂层
- 功能性0.88 吸光度|700°C 阻抗|Pa-3 无真空沉淀
纳克豪黑色吸光（红外辐射等）纳米涂层可用于各种特殊要求的应用，如 700° 高温吸光，或绝缘、耐磨和耐腐蚀，或兼具耐高温和耐腐蚀性能。
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燃料电池双极板非贵金属涂层
- 应用氢能源 | 氢储存 | 双极板 | 贵金属替代品
已进入中试阶段的纳克索双极板保护涂层在腐蚀电位和界面电阻（ICR）方面已优于行业平均水平。NanoShield 的第二代氢燃料电池保护涂层已进入中试阶段。
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