M 系列 PVD 涂层系统

纳狮 PVD涂层加工和真空镀膜设备

部件和零件

M 系列 PVD 涂层系统

下一代阴极电弧技术

M 型基于Naxau SPARK® 平台设计，采用 CVC® 和 UFC® 电弧阴极专利技术。SPARK® 平台具有高度的灵活性，是行业内产量最可靠的平台之一。多种等离子技术可在一台设备上组合使用。

类别真空设备浇注设备标签刀具涂层, 模具涂层, 溅射和阴极电弧

该设备的主要特点是循环时间快、操作简便、用户界面友好且价格优惠，同时不影响涂层性能。该设备拥有两个采用 ARC 技术的旋转阴极，能以稳定的高质量沉积精选的纳克豪签名涂层。对于希望进入镀膜领域或希望在其设备中添加快速低产量 PVD 系统的客户来说，该设备是理想的选择。

优势

提高目标利用率（高达 30%）
增强磁场系统，从而提高沉积率
快速阴极交换

应用蚀刻技术：

侧向辉光放电
等离子氩蚀刻、辉光放电
金属离子蚀刻（钛、铬）

载荷和循环时间：

最大涂布量 [毫米]： ø68 x H800
规定涂层厚度的最大涂层高度：800 毫米
最大负载800 千克
每天 3-4 批

模块化旋转木马系统：

双旋转踢脚转盘或三旋转齿轮箱系统

软件：

使用和维护简单
带触摸屏的现代化控制系统
记录数据并实时显示工艺参数和流量
手动和自动过程控制
远程诊断和维护

机器尺寸：

占地面积 [毫米]：长 4545 x 宽 2200 x 高 2522

下载：

纳克豪 MX850 PVD 涂层系统-En.PDF

型号 M	M450	M600
等离子区（毫米）	D680x450	D680x600
最大装载量（千克）	300	500
PVD 技术	CVC 或 UFC	CVC® 或 UFC®
蚀刻技术	SET® 或 CET®	SET® 或 CET®
可提供涂层	工具的所有涂层	工具的所有涂层
杜拉技术	可申请	可申请
阴极数	6	10
最小表面粗糙度 (Ra)	Ra0.05（需要装备 UFC®）。	Ra0.05（需要装备 UFC®）。
地面空间长宽高（毫米）	4600x2300x2000	4600x2300x2000