磁控溅射-双磁控和中频磁控溅射

2019-02-13 2845

高沉积速度和靶材利用率对对工业过程非常重要。尽管磁控管阴极的沉积速率相对较高，但不如蒸发过程的沉积速度高（前的博客中已解決）。双磁控管/脉冲磁控管配置既可实现高沉积速率，又可提高材料利用率[1,2,3]。双磁控溅射使用中频（〜40 kHz - 300 kHz）脉冲电...

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