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2020年中国PVD镀膜设备产业全景图(附产业政策、市场规模、竞争格局等)
2573PVD(物理气相沉积)技术即在真空条件下,采用物理方法,将材料源--固体或液体表面气化成气体原子,分子或分電成离子,并通过低压气体(또는等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。它早在20世纪初已有些应用,但30年迅速发展,成为一门极具广阔。。..
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PVD(物理气相沉积)技术即在真空条件下,采用物理方法,将材料源--固体或液体表面气化成气体原子,分子或分電成离子,并通过低压气体(또는等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。它早在20世纪初已有些应用,但30年迅速发展,成为一门极具广阔。。..
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