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  • 刻蚀模块

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    侧面氩离子体清洗系统确保涂层有效区域刻蚀均匀性为±10%, 刻蚀速度250nm/h, 有效祛除基体材料表面微氧化层, 增强涂层与基材结合力。 金属刻蚀可以增强硬质涂层与基材结合力。通过调整阴极磁場设计,确保阴极在低流条件下工作,控制金属刻蚀的能量。低流...

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