차세대 PECVD 및 스퍼터링 기술
모델 P는 특허받은 SET® 및 CET® 플라즈마 기술이 적용된 낙사우 SPARK® 플랫폼을 기반으로 설계되었습니다. SPARK® 플랫폼은 업계에서 가장 신뢰할 수 있는 생산량으로 높은 유연성을 제공합니다. 여러 플라즈마 기술을 하나의 장비에 결합할 수 있습니다.
낙소 코어 에칭 기술
20년 이상의 지속적인 운영과 개선을 바탕으로 낙사우는 아크 특허 플라즈마 에칭 기술인 SET® 및 CET®를 개발했습니다. 성공적인 도금 결과를 위해서는 코팅 전에 공구 표면을 적절히 에칭하여 깨끗하고 활성화된 인터페이스를 만드는 것이 중요합니다. 에칭은 금속 산화물, 수분, 미세한 기름 및 땀 찌꺼기 등과 같은 표면 오염 물질을 제거해야 합니다. 또한 에칭은 표면을 재활성화하여 분자 결합이 개방되고 코팅 공정에서 이온 결합이 가능하도록 할 수 있습니다.
낙사우의 SET® 및 CET® 기술은 코팅 시 가스 플라즈마 소스로도 사용됩니다. 공구용 모델 M PVD 코팅 장비의 경우, SET® 및 CET® 기술은 공구 코팅의 경도를 30% 이상 높일 수 있습니다. 부품용 모델 P PECVD 코팅 장비의 경우, SET® 및 CET® 기술은 C2H2, CH4, SiH4 등의 유입 가스를 이온화하여 DLC 코팅의 결정화 및 경도를 더욱 향상시킬 수 있습니다.
부품용 PECVD DLC 코팅 장비
모델 P | P850 | P1200 |
플라즈마 영역(mm) | D680x850 | D680x1200 |
최대 적재량(kg) | 1000 | 1500 |
PVD 기술 | PECVD 및 스퍼터링 | PECVD 및 스퍼터링 |
에칭 기술 | SET® 또는 CET® | SET® 또는 CET® |
코팅 가능 | CrN, a-C:H, a-C:Si:H, DLC, WCC, ta-C | CrN, a-C:H, a-C:Si:H, DLC, WCC, ta-C |
듀라 기술 | 요청 시 가능 | 요청 시 가능 |
음극 수 | 4 | 4 |
최소 표면 거칠기(Ra) | Ra0.05 | Ra0.05 |
바닥 공간 D*W*H(mm) | 4600x2300x2200 | 4600x2300x2400 |
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