高阻隔膜真空镀膜设备
高阻隔膜真空镀膜设备 - 포장재 수명 연장 방안
高阻隔材料的应用
高阻隔膜其实现已在日常生活中,目前的高分子高阻隔材料主要应用于食品与药品包装、电子器器件封装、太阳电池封装、OLED封装。
1. 食品与药品包装
식품 및 식품 포장은 고압 차단 소재가 가장 널리 사용되는 분야로, 포장 중 공기와 수분이 식품 및 식품에 유입되는 것을 방지하여 품질을 크게 낮추는 것이 주요 목적입니다.
식품 및 식품 포장에 대한 일반적인 차단 요구 사항은 특별히 높지 않으며, 차단 재료의 수분 투과율(WVT₂)과 공기 투과율(O₂)은 각각 10g/m2/일 및 100cm3/m2/일보다 낮아야 합니다.
2. 电子器件封装
现代电子信息的快速发展,人们对电子器械的出生了更高的要求,向向便携性,多功能化发展。这就为电子器械封装材料出生了更高的要求,既要具有良好绝性,又能保护它不会受外气和水气腐蚀,这就需用到高分子阻隔材料,并且要具有一定强度,这就要使用于加重加工的。
일반 전자기기의 포장재 투과율(WVTR)과 투과율(OTR)은 각각 10-1g/m2/일 및 1cm3/m2/일 이하로 낮아야 합니다.
3. 太阳能电池封装
태양 광 발전으로 인해 공기 중의 공기와 물의 태양 광 전지 외부에 대한 금속 화층 생산이 태양 광 전지의 사용에 큰 영향을 미칩니다. 따라서 태양 광 전지 구성 요소에 고 절연 재료를 사용하여 밀봉 처리를 수행해야 태양 광 전지의 사용 수명을 보장 할 수있을뿐만 아니라 전지의 충격 강도를 강화할 수 있습니다.
태양 전지 봉지 재료의 투과율(WVTR) 및 투과율(OTR) 요구 사항은 각각 10-2g/m2/일 및 10-1cm3/m2/일보다 낮아야 합니다.
4. OLED 포장
OLED는 개발 초기부터 차세대 디스플레이로 주목받았지만 수명이 짧다는 점이 상업화 적용에 큰 걸림돌로 작용했으며, OLED 사용 수명의 주요 원인은 전극 재료와 발광 재료가 물, 습기, 오염에 매우 민감하고 기기의 성능 저하, 낮은 발광 효율, 사용 수명 단축으로 인한 오염에 쉽게 노출되기 때문입니다.
제품의 발광 효율을 보장하고 사용 수명을 연장하기 위해 기기는 포장시 일정한 온도와 습기를 차단해야 합니다.
또한 유연성OLED 디스플레이의 사용 수명을 최대 10000h까지 보장하려면 재료의 수분 투과율(WVTR) 및 투과율(OTR)이 각각 10-6g/m2/일 및 10-5cm3/m2/일보다 낮아야 하며, 이는 항공기, 태양 전지 포장 및 식품, 화장품 및 전자 기기 포장 기술 등의 분야에서 절연 성능에 대한 요구 사항이 있으므로 절연 성능이 10배 향상된 유연성 바닥 재료를 장비에 포장하여 제품 수명을 충족시켜야 합니다.
聚合物表面由于经常与外部环境接触,容易对聚合物的表面吸着,阻隔性,印刷产生影响。为聚合物能够更好应用于日常生活,通常对聚合物的表面进行处理。主要包括:表面化学处理、表面接枝改性等离子体表面处理。
表面涂覆即利用物理气象沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、原子層沉积(ALD)、分子層沉积(MDL)、層自组装(LBL)或磁控溅射沉积等技术在聚合物表面沉积金属氧化物或氮化物等材料,从而在薄膜表面形成致密且阻隔性能优异的涂层。
纳米复合材料是利用不可渗透且具有大的长径比的片状纳米粒子通过插层复合法 、原位聚合法或溶胶-凝胶法制备的纳米复合材料。片状纳米粒子的加入可以降低体系中聚合物基體的体积分数,以降低透分子的溶解度,而且还能够延长渗透分子的渗透路径,降低透分的扩散速度,使阻隔性能得到改进。
镀膜必要条件
基材
基材必须具备表面平坦度, 光学性, 可承受镀膜的耐性。일반情况下使用表面附带功能涂布层的 PET基材。
镀膜工艺
可廉价备可连镀膜的真空卷对卷工艺。基材卷1长度数千米,所以必须要有能稳定镀膜长尺寸基材的镀膜工艺。光学问题发生的范围内,必须保证宽度方向的膜厚均一性。
膜种
考虑到光学特性,일반的使用Si系列的膜。单层结构,因为SiO系的光学性折射率低,折射率接近于基材所以被建议使用。SiN系在阻隔性,弯曲性上表现优越,但因折射率高使得光线透过成为难题。多层结构,在阻隔性,弯曲性方面建议使用。同时,从故有的制造方法进行生产的话成本有高昂的倾向。
纳狮新能源实验室,提供整厂定制真空镀膜设备工程及设施方案。
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