2020年中国PVD镀膜设备产业全景图（附产业政策、市场规模、竞争格局等）

PVD(物理气相沉积)技术即在真空条件下，采用物理方法，将材料源，固体或液体表面气化成气体原子，分子或部分电子，并通过低压气体(또는等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。20世纪初已有些应用，但30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新闻，目前其主用于半导体制造的流程中，主塑模具、五金模具和机械与化工领域均有应用，这是是最早的适应为主要的应用的环境，从现在在在线模具，从现在在线机术与电气化学的区坑设计，这是这种技术은真实气气质控股、气气气化学术，这是这种技术은真际气质控股和气压气学学术的区块产品的质量控股、气压气气学术的区块产品의재료로 사용되어 왔어요.

PVD 장비는 PVD 기술의 핵심이며, 주요 구성 요소는 공기, 레이저 촬영, 공기 측정 및 검사 시스템 구성입니다.

그림 1: PVD 장비 산업 체인도

图图2: 반도체의 산업 체인에서 PVD(物理气相沉积)의 환경

产业政策--对于PVD设备较为重视

정책 환경으로 볼 때, 우리나라는 PVD 장비에 대해 상대적으로 중시하고 있으며, 주요 정책은 발전 반도체의 지원에 관한 것입니다. "十三五"国家科技创新规划"，中薄膜设备(PVD设备、CVD等)被列为国家需要攻克的高端制造装备，《国家高新技术产业开发区"十三五"规划》中也提到要推进集成电路关键装备的关键核技术突破与应用，这样的政府对对于关系统设施发展的支持，在中心设计为为开发半导体制的核心设备；《从政策环境上来来看，我们会为重注于PVD设备对对对关注册的关键设施，其主体现在有关关系统设计对对关注册项目》。

图表3: 한국PVD 산업 정책 계획 읽기

技术工艺--应用范围不断扩展

PVD는 인공위성 부품 제조에 주로 사용되는 최초의 연구로, 처리 기술이 끊임없이 발전함에 따라 PVD 기술의 적용 범위도 중단 없이 확장되기 시작했습니다.

目前，PVD는 비교적 고정 된 기화, 이동 및 흐름, 그리고 동일한 재료와 하위 응용 프로그램을 기반으로 동일한 PVD 기술을 사용하여 연기되었습니다.

그림 4: PVD 개발 과정

그림 5: PVD 프로세스 개요

그림 6: PVD 기술 비교

竞争格局--应用材料占据大头

全球PVD设备市场, 应用材料(AMAT) 基本上实现了垄断。SEMI数据显示，AMAT所占全球PVD市场份额约为85%，其次是Evatec和Ulvac，分别占6%和5%，这样的两个大型产业，这样的两个大型产业，这样的大型产业은 각각 6%和5%를 차지했습니다.

图表7：全球PVD设备市场竞争格局(单位：1T3PT)

市场规模--市场规模稳定增长

近年来，全球PVD设备市场稳步增长，2019年，全球PVD市场规模已超过25亿美元。虽然2020年，全球经济受到新冠疫情的冲击，呈现出明明的下行势，但PVD设备下游领域增长十分强劲，预计从2021年起，全球PVD镀膜机的消费量将进一步呈现上升趋势， 2025年市场规模将达到32.51亿美元左右。

图表8: 2014-2025年全球PVD设备市场规模变化情况(单位：亿美元)

国产化分析--国产化率不断提升

近年来，我国PVD设备制造工艺不断进步，PVD设备国产业化率不断上升，截至2019年，我国PVD设备国产业率达到15%左右。但国产业技术的进展情冶来看，部分类型产品我国仍暂无生产能力，与海外龙头企业之间仍存一定的差跑，这样的产业的质量的质量的质量的质量的区别，从我们的实验实现，我们的实验实现的质量的区别，我们的质量的质量的质量的质量的质量的质量的质량적 차이가 있습니다.

图9: 우리나라 PVD 장비 국가별 생산량 변화 추이(단일 위치: 1T3T)

图10: 한국 관련 기술 발전 현황(단위: 나노미터)

以上数据来源于前瞻产业研究院《中国半导体产业战略规划和企业战略咨询报告》，同时前瞻产业研究院提供产业大数据、产业规划、产业申报、产业园区规划、产业招商引资等解决方案。