PVD的孔径比及绕镀性-アスペクト比

01 什么是PVD的孔径比 #

孔径比（厚径比，纵横比），aspect ratio。PVD真空镀膜的经验数值，孔深：孔径＜1：1，及孔深值不能大于孔径，否则很难镀上。越深膜越浅，且不同的涂层种类和工艺深度不一样。但总体而言，PVD不适合镀内孔。通常在孔径小于6mm，内孔里面就很难镀到；相反，孔径越大，能镀进入的概率越大。

通过二维旋转挂具，可以改善深孔镀膜效果。如下图，当二维旋转时，孔的两端都可以被镀上，越往深孔的中间，膜层越薄，或者镀不上。

• 孔径比1：1；但是，工件真实开口尺寸越大，能镀去越深；
• 氮化钛具有优秀的绕镀性；
• 可以旋转工件，两端镀膜；
• HiPIMS可以超过1：2；但是应用受限；
• 有DLC空心阴极技术；及将电极深入工件腔室内；为工件专用定制设备；

PeCVD的绕镀性好于PVD，但是依然不适合镀深孔。PeCVD的DLC齿轮，内壁明显出现炫彩。DLC膜厚低于1微米时，会出现明显的彩色。而且随着膜厚不同，呈现的颜色也不同。

02 氮化钛涂层优秀的绕镀性 #

PVD氮化钛涂层，特别是在开槽零件时，可以明显突破孔径比1：1法则。对于下图这类开槽的零件，可以看见仅最里面的拐角处有明显发白，其它颜色都比较均匀。纳狮通常使用复合黄钛，及打底层和中间层有1-2微米，而氮化钛不超过1.5微米。因此，如果延长镀膜时间，则此类两边开槽的工件，是可以镀上的。

03 真空镀膜的内孔工艺 #

国内已经有最高16：1的PVD深孔镀膜机，打样费2万一炉，灵兮没有机会尝试。传说已经量产。但是中国工业更喜欢便宜量大的产业，及规模优势，诸如此类的小众镀膜机市场有限。真空镀膜技术中，CVD及其延伸如LPCVD等化学气相沉积工艺，都可以镀内孔，及气体能到的区域都能镀到。但是内控的膜厚依然只有外壁的一半左右。且通常与传统PVD的应用场景不相同。

04 PVD氮化钛涂层的模具案例 #

电子枪PVD适合做模具涂层，表面无液滴，膜致密，绕镀性好，为纳狮镜面模具涂层工艺之一。