PVD的孔径比及绕镀性-アスペクト比

01 什么是PVD的孔径比 #

孔径比（厚径比，纵横比），アスペクト比，PVD，真空镀膜的经验数值，孔深：孔径＜1：1，及孔深值不能大于孔，否则很难镀上，越深膜越，且不同的涂层种和工艺深度不一样，但总体而言，PVD不适合镀内孔，通常在孔径小6于mm，内孔里面就很难镀到；相，孔径大，能镀进入的概率越。

通过二维旋转挂具，可以改善深孔镀膜效果，如下图，当二维旋转时，孔的两端都可以被镀上，越往深孔的中间，膜层越薄，或者镀不上。

• 孔径比1：1；但是，工件真实开口尺寸越大，能镀去深；。
• 氮化钛具有优秀的绕镀性；氮化钛具有优秀的绕镀性
• 可以旋转工件，两端镀膜；。
• HiPIMS可以超过1：2；但是应用受限。
• 有dlc空心阴极技术；及将电极深入工件腔室内；为工件专用定制设备；。

PeCVD的绕镀性好于PVD，但是依然不适合镀深孔。PeCVD的DLC齿轮，内壁明显出现炫彩。DLC膜厚低于1微米时，会出现明显的彩色，而且随着膜厚不同，呈现的颜色也不同。

02 氮化钛 涂层优秀的绕镀性 #

pvd氮化钛涂层，特别是在开槽零件时，可以明显持突破孔径比1：1法则。对于下图这类开槽的零件，可以看见仅最里面的拐角处有明显发白，其它颜色都比较均匀。纳狮常使用复合黄钛，及打底层和中间层有1-2微米，而氮化钛不超过1.5微米因，此如果延长镀膜时间，则此类两边开槽的工件，是可以镀上的。

03 真空镀膜的内孔工艺 #

国内已经有最高16：1的pvd深孔镀膜机，打样费2万一炉，灵兮没有机会尝试。CVD及其延伸如lpcvd等化学气相沉积工艺，都以可镀内孔，气体能到的区域能镀到但是内控的膜厚依然只有外壁的一半左右且通常与传统pvd的应用场景不同。

04 pvd氮化钛涂层的模具案例 #

电子枪pvd适合做模具涂层，表面无液滴，膜致密，绕镀性好，为纳狮镜面模具涂层工艺之一。