刻蚀模块

SET蚀模块

侧面氩离子体清洗系统确保涂层有效域刻蚀均匀性为±10%刻，蚀速率250nm/h，有效祛除基体材料表面微氧化层，增强涂与层基材结力。

MET蚀模块

金属刻蚀可以增強硬质涂层与基材结合力，通过调整阴极磁场设计，确保阴极在低电流条件工作，控制金属刻蚀的能量低电流的金属刻蚀风险。