
次世代PECVDとスパッタリング技術
モデルPは、特許取得済みのSET®およびCET®プラズマ技術を搭載したNaxau SPARK®プラットフォームに基づいて設計されています。SPARK®プラットフォームは、業界で最も信頼性の高い生産量と高い柔軟性を持っています。複数のプラズマ技術を1台の装置で組み合わせることができます。
ナクソー・コア・エッチング技術
20年以上にわたる継続的な操業と改良に基づき、ナクソーはアーク特許取得済みのプラズマエッチング技術SET®とCET®を開発しました。メッキを成功させるためには、コーティング前に工具の表面を適切にエッチングし、クリーンで活性化された界面を得ることが重要です。エッチングは、金属酸化物、水分、微小油分、汗くずなどの表面汚染物質を除去する必要があります。また、エッチングにより表面を再活性化することで、分子結合が開き、コーティングプロセスでイオン結合が可能になります。
ナクソーのSET®およびCET®技術は、コーティング中のガスプラズマ源としても使用されます。工具用のM型PVDコーティング装置では、SET®とCET®の技術により工具コーティングの硬度を30%以上向上させることができます。部品用モデルPECVDコーティング装置では、SET®およびCET®技術がC2H2、CH4、SiH4などの入口ガスをさらにイオン化し、DLCコーティングの結晶化と高硬度化を実現します。
コンポーネント用PECVD DLCコーティング装置
モデルP | P850 | P1200 |
プラズマゾーン(mm) | D680x850 | D680x1200 |
最大荷重 (kg) | 1000 | 1500 |
PVD技術 | PECVDとスパッタリング | PECVDとスパッタリング |
エッチング技術 | SET®またはCET | SET®またはCET |
コーティング可能 | CrN、a-C:H、a-C:Si:H、 DLC、WCC、ta-C | CrN、a-C:H、a-C:Si:H、 DLC、WCC、ta-C |
デュラ・テクノロジー | リクエストにより可能 | リクエストにより可能 |
カソード数 | 4 | 4 |
最小表面粗さ(Ra) | Ra0.05 | Ra0.05 |
床面積 D*W*H (mm) | 4600x2300x2200 | 4600x2300x2400 |