高出力無液滴高光沢アークPVD真空装置と高度なツーリングコーティングソリューション

Naxau Spark高光沢アーク技術は、3C高光沢ナイフコーティング用途に広く使用されています。従来のフィルター付きアークマルチアークイオンプレーティングや最新のHipims高周波マグネトロンスパッタリングと比較して、液滴や膜の欠陥が大幅に減少します。

01 一般的なPVD装置プロセスの比較

ナクソー・スパークの液滴フリー技術は、新たなブレークスルーをもたらした：

TiNコーティングを例にとると、厚さ2.5um、蒸着速度0.5um/h、Ra <0.05um、硬度34Gpa。

ナクソー・ドロップレットフリーコーティング マルチアークイオンプレーティング マグネトロンスパッタリング ナクソー・スパーク高光沢アーク ターゲット材料が限定される 高表面粗さ > Ra0.2 高イオン化率 > 60% 高蒸着速度 > 1um/h リッチスパッタリング材料 低表面粗さ Ra0.05 低イオン化率 20%-40% 低蒸着速度 0.35um/h リッチスパッタリング材料 低表面粗さ 90% 低蒸着速度 0.5um/h

02 高光沢アーク技術の特徴

高光沢アーク・コーティング：液滴が少なく硬いコーティング

高光沢アークコーティング：表面粗さを小さくすることで、表面の濡れ性を低下させ、スティッキング防止効果を得ることができる。

高光沢アークコーティング：コーティング液滴が少なく、欠陥が少なく、コーティングが緻密。

03 Naxau高光沢アーク真空コーティング設備

Naxau PVD、PECVD、DLCプロセス真空コーティング装置は工具コーティング、金型コーティング、部品コーティング、医療生物コーティングに適しています。工場全体のハードウェアとソフトウェアの出力のためのターンキーソリューションを提供し、顧客が真空コーティング装置をよく、手頃な価格で本当に使用するための「付随」サービスを提供しています。

M850高光沢アーク装置

04 高光沢アークツールTa-cコーティングアプリケーション

Ta-Cコーティングを使用することで、切削工具の寿命を効果的に向上させ、加工コストを削減し、製品の品質を向上させることができる。