大功率无液滴高光弧pvd真空设备与先进工模具涂层解决方案

纳狮Spark高光弧技术，广泛用于3C高光刀涂层应用相较于传统的过虑弧多弧离子镀，甚至最新的Hipims高频磁控积，液滴明显及膜缺陷显著减少。

01 常见PVD设备工艺对比

纳狮Spark无液滴技术再创新突破：TiN涂层为例，厚度2.5um，沉积速率0.5um/h，Ra＜0.05um，硬度34Gpa。

02 高光工艺特点

• 高光弧涂层：镀膜更硬少液滴
  
• 高光弧涂层：减小表面粗糙度可减小表面润湿性，起到抗沾粘效果。
  
• 高光弧涂层滴，缺陷更少，涂层更致密
  

03 纳狮高光弧真空镀膜设备

纳狮pvd、pecvd、dlc工艺真空镀膜设备、适用于刀具ڂ层、模具涂层、零件涂层及医疗生物涂层。提供整厂软硬件交钥匙输出方案、并提供 "陪跑 "服务、真正帮助客户讲真空镀膜哦设备好用得起来。

04 高光弧刀具Ta-c涂层应用

使用Ta-C涂层可以有效提升刀具寿命，降低加工成本，提升品质量。