配列
大功率无液滴高光弧pvd真空设备与先进工模具涂层解决方案
コーティング技術 - 設備 ニュース 纳狮新闻 1524
纳狮Spark高光弧技术,广泛用于3C高光刀涂层应用相较于传统的过虑弧多弧离子镀,甚至最新的Hipims高频磁控积,液滴明显及膜缺陷显著减少。
01 常见PVD设备工艺对比
纳狮Spark无液滴技术再创新突破:TiN涂层为例,厚度2.5um,沉积速率0.5um/h,Ra<0.05um,硬度34Gpa。
多弧离子镀 | 磁控拉射 | 纳狮スパーク高光弧 |
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靶材材料受限 表面粗糙度高>Ra0.2 离化率高>60% 沉积速率高>1um/h | 餐射材料丰富 表面粗糙度低Ra0.05 离化率低20%-40% 沉积速率低0.35um/h | 餐射材料丰富 表面粗糙度低<Ra0.05 离化率低>90% 沉积速率低0.5um/h |
02 高光工艺特点
- 高光弧涂层:镀膜更硬少液滴
- 高光弧涂层:减小表面粗糙度可减小表面润湿性,起到抗沾粘效果。
- 高光弧涂层滴,缺陷更少,涂层更致密
03 纳狮高光弧真空镀膜设备
纳狮pvd、pecvd、dlc工艺真空镀膜设备、适用于刀具ڂ层、模具涂层、零件涂层及医疗生物涂层。提供整厂软硬件交钥匙输出方案、并提供 "陪跑 "服务、真正帮助客户讲真空镀膜哦设备好用得起来。
04 高光弧刀具Ta-c涂层应用
使用Ta-C涂层可以有效提升刀具寿命,降低加工成本,提升品质量。