
Tecnología PECVD y de pulverización catódica de nueva generación
El modelo P está diseñado sobre la base de la plataforma SPARK® de Naxau con tecnologías de plasma SET® y CET® patentadas. La plataforma SPARK® tiene un alto grado de flexibilidad con una de las producciones más fiables de la industria. Se pueden combinar múltiples tecnologías de plasma en una sola máquina.
Tecnología de grabado Naxau Core
Basándose en más de 20 años de funcionamiento y mejoras continuas, Naxau ha desarrollado las tecnologías de grabado por plasma SET® y CET®. Un grabado adecuado de la superficie de una herramienta para conseguir una interfaz limpia y activada antes del revestimiento es fundamental para obtener un resultado de revestimiento satisfactorio. El grabado debe eliminar los contaminantes de la superficie, como el óxido metálico, la humedad del agua, los micro restos de aceite y sudor, etc. El decapado también puede reactivar una superficie para que el enlace molecular esté abierto y sea posible la unión iónica para el proceso de revestimiento.
Las tecnologías SET® y CET® de Naxau también se utilizan como fuente de plasma gaseoso durante el recubrimiento. En los equipos de revestimiento PVD para herramientas modelo M, las tecnologías SET® y CET® pueden aumentar la dureza del revestimiento de una herramienta en más de 30%. En los equipos de revestimiento PECVD para componentes modelo P, las tecnologías SET® y CET® ionizan aún más el gas de entrada de C2H2, CH4, SiH4, etc., para lograr una mejor cristalización y una mayor dureza de los revestimientos DLC.
Equipos de revestimiento PECVD DLC para componentes
Modelo P | P850 | P1200 |
Zona de plasma (mm) | D680x850 | D680x1200 |
Carga máxima (kg) | 1000 | 1500 |
Tecnología PVD | PECVD y pulverización catódica | PECVD y pulverización catódica |
Tecnología de grabado | SET® o CET | SET® o CET |
Revestimiento disponible | CrN, a-C:H, a-C:Si:H, DLC, CMI, ta-C | CrN, a-C:H, a-C:Si:H, DLC, CMI, ta-C |
Tecnología Dura | Posible previa solicitud | Posible previa solicitud |
Número de cátodos | 4 | 4 |
Rugosidad superficial mínima (Ra) | Ra0,05 | Ra0,05 |
Espacio de suelo D*A*A (mm) | 4600x2300x2200 | 4600x2300x2400 |