Fuente de plasma

Cátodo de pulverización catódica por magnetrón

Beneficios

Deposición de alta dinámica
Tasa (DDR)
Alta utilización de objetivos
La uniformidad optimizada
Fácil mantenimiento

Cátodo de arco

Revestimiento DLC
Ionizado por arco

Cátodo de arco lineal
Cátodo de arco circular

El cátodo de arco es un componente clave para el sistema de metalizado iónico por arco y DLC. Es capaz de mejorar y maximizar la utilización del objetivo y la capacidad de producción con un diseño optimizado. Naxau ejecuta la simulación del campo magnético, diseño, etc con el fin de proporcionar la solución optimizada para el cliente.

Fuente de iones

Tratamiento previo
Ayuda
DLC

Fuente lineal de iones

La fuente de iones es un componente clave en el proceso de limpieza por plasma, ya que acelera la llegada de los iones a los sustratos, lo que provoca una reacción físico-química que activa la superficie del sustrato para mejorar la adherencia.
Naxau proporciona la solución personalizada necesaria para el pretratamiento de superficies mediante su propio diseño.

Fuente de plasma RF ICP

PECVD
PVD
Grabado con resistencia
Limpieza y activación
PALD - Asistencia

Fuente redonda
Fuente lineal
Fuente del anillo
Fuente incorporada