Naxau PVD-Beschichtungsanlagen und Vakuumbeschichtungsanlagen

PVD-Beschichtungsanlagen

Spezifikation

  • Gleichmäßigkeit : ± 15%
  • Beschichtungszeit : 1H
  • Film: TiN, TiAlN, AlCrN, TiAlSiN, AlCrSiN usw.
  • Gepulste DC-Vorspannung
  • Planarer & kreisförmiger Bogen
  • Spezielle Hochtemperatur-Heizung: 60KW
  • Maximale Belastung : 800Kg
  • Achsen : 12 Spindeln
  • Beschichtungsbereich : ф 680 x 850H

PRODUKTIONSKAPAZITÄT (MUSTER)

ModellINSERTENDMILL
SPCN12T7,6 x L45T7,6 x L65
MX8503.024 Stück576 Stück432 Stück
MX6806.720 Stück1.440 Stück1.200 Stück

Spezifikation

  • Gleichmäßigkeit : ± 15%
  • Beschichtungszeit : 1H
  • Film: TiN, TiAlN, AlCrN, TiAlSiN, AlCrSiN usw.
  • Gepulste DC-Vorspannung
  • Planarer & kreisförmiger Bogen
  • Spezielle Hochtemperatur-Heizung: 60KW
  • Maximale Belastung : 500Kg
  • Achsen : 8 Spindeln
  • Beschichtungsbereich : ф 680 x 600H
Naxau-DLC-Schichtsysteme

MCK 2000

Hybride Beschichtungsanlagen für hohe Stückzahlen (Ionenquelle, Sputter, Arc)

Spezifikation

  • Gleichmäßigkeit : ± 15%
  • Zykluszeit : 5-7Hr
  • Film: TiN, CrN, TiAlN, DLC, etc.
  • Hochtemp. Heizgerät : 60KW
  • Maximale Belastung: 1.000 kg
  • Achsen : 10 Spindeln
  • Beschichtungszone : ф 900 x 2.000H

MCK 850

Keramik- und Heizblockbeschichtungsanlage.

Spezifikation

  • Gleichmäßigkeit: ± 10%
  • Zykluszeit : 6-7Hr
  • Film: TiN, Alpha-Beschichtung
  • Gepulste DC-Vorspannung
  • Planares und rotierendes Sputtern
  • Ätzen mit der Ionenpistole
  • Spezielle Hochtemp. Heizgerät : 36KW
  • Maximale Belastung : 300Kg
  • Achsen : 6 Spindeln
  • Beschichtungsbereich : ф 860 x 400H
de_DEDeutsch