Naxau PVD-Beschichtungsanlagen und Vakuumbeschichtungsanlagen

DLC-Beschichtungssystem der P-Serie

Naxau-DLC-Schichtsysteme

PECVD- und Sputtering-Technologie der nächsten Generation

Das Modell P basiert auf der Naxau SPARK®-Plattform mit den patentierten SET®- und CET®-Plasmatechnologien. Die SPARK®-Plattform bietet ein hohes Maß an Flexibilität mit einer der zuverlässigsten Produktionsleistungen der Branche. Mehrere Plasmatechnologien können in einer Maschine kombiniert werden.

Naxau Core Etching Technologie

Auf der Grundlage von mehr als 20 Jahren kontinuierlicher Arbeit und Verbesserungen hat Naxau die patentierten Plasmaätztechnologien SET® und CET® entwickelt, die dem Stand der Technik entsprechen. Ein ordnungsgemäßes Ätzen der Oberfläche eines Werkzeugs, um eine saubere und aktivierte Schnittstelle vor der Beschichtung zu erreichen, ist entscheidend für ein erfolgreiches Beschichtungsergebnis. Beim Ätzen müssen Oberflächenverunreinigungen wie Metalloxid, Wasser, Mikroöl und Schweißrückstände usw. entfernt werden. Durch das Ätzen kann eine Oberfläche auch reaktiviert werden, so dass die molekularen Verbindungen offen sind und eine Ionenbindung für den Beschichtungsprozess möglich ist.

Die SET®- und CET®-Technologien von Naxau werden auch als Gasplasmaquelle während der Beschichtung eingesetzt. Bei PVD-Beschichtungsanlagen des Modells M für Werkzeuge können die SET®- und CET®-Technologien die Härte einer Werkzeugbeschichtung um mehr als 30% erhöhen. Bei den PECVD-Beschichtungsanlagen für Komponenten des Modells P ionisieren die SET®- und CET®-Technologien das einströmende Gas aus C2H2, CH4, SiH4 usw. weiter, um eine bessere Kristallisation und höhere Härte der DLC-Beschichtungen zu erreichen.

 

PECVD DLC-Beschichtungsanlagen für Komponenten

Modell P

P850

P1200

Plasma-Zone (mm)

D680x850

D680x1200

Maximale Belastung (kg)

1000

1500

PVD-Technik

PECVD und Sputtern

PECVD und Sputtern

Ätztechnik

SET® oder CET®

SET® oder CET®

Beschichtung verfügbar

CrN, a-C:H, a-C:Si:H,

DLC, WCC, ta-C

CrN, a-C:H, a-C:Si:H,

DLC, WCC, ta-C

Dura-Technik

Auf Anfrage möglich

Auf Anfrage möglich

Anzahl der Kathoden

4

4

Minimale Oberflächenrauhigkeit (Ra)

Ra0,05

Ra0,05

Bodenfläche D*B*H (mm)

4600x2300x2200

4600x2300x2400

de_DEDeutsch