CVD涂层的优势
纳狮CVD 涂层的典型的工艺温度为为900到1050 °C,因此仅限于高温合金材料,如硬质合金,工具钢,高温合金,陶瓷和石墨等。钢工具基材需要在做完CVD涂层后做热处理,以达到所需的硬度。
- 可涂覆工件内表面
- 低应力,可做厚膜
- 高结合力,高负载
- 优异的涂层均一性
数控刀具CVD涂层指南
可以通过后期抛光,将摩擦系数降到0.15。显微硬度(2400-3400HV)。 | |||||||
涂层 | 涂层说明 | 膜厚 (μm) | 涂层成分 | 摩擦系数 | 外观颜色 | 应用领域 | |
KA | TiN | 13~17 | TiCN+Al2O3+TiN | 0.3 | 金黄色 | 针对一般钢件 | |
KB | TiCN | 13~17 | TiCN+Al2O3 | 0.4 | 黑金刚 | 灰铸铁、球墨铸铁 | |
KC | TiAlN | 13~17 | TiCN+Al2O3+TiN | 0.4 | 双色 | 低碳钢、合金钢 | |
KD | AlTi基 | 13~17 | TiCN+Al2O3 | 0.4 | 孔黄 | 综合性能高 | |
KE | AlTiSi基 | 9~9 | TiCN+Al2O3+TiN | 0.3 | 金黄色 | 不锈钢等抗粘粘性钢材 |
CVD涂层金属成型模具应用
- 拉伸模具
- 锻造模具
- 冲压模具
- 拉丝模具
- 挤压模具
- 铸造模具
- 成型辊
- 接缝辊
- 冷镦工具
- 压接工具
- 弯管模具
- 冲棒/冲针
CVD镀膜服务的常见问题
工艺特点 | PVD Physical Vapor Deposition | CVD Chemical Vapor Deposition |
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真空度 | 10-2 to 10-4 mbar | 常压或低真空 |
温度 | 200-450℃ | 900-1050℃ |
沉积限制 | 视线法则 | 气体能接触到的任何表面 |
镀膜工艺 | 物理气相沉积 | 化学气相沉积 |
膜厚 | 1-7 μm, 或纳狮定制 | 5-12 μm, 最大20μm; |
基材限制 | 非真空挥发性 | 长时间耐高温 |
表面光洁度 | 0.03-0.05μm | 需抛光处理 |
后处理 | 无需热处理 | 工具钢需后处理调制硬度 |
边缘构造 | 无堆边现象 | 厚膜,可打磨边缘 |
CVD仅限于耐高温材料,和PVD镀膜一样,为保证涂层的结合力,基材表面光洁无油、无锈。
由于CVD在900℃以上镀膜且为化学气相沉积,因此工件遮蔽更加困难。可以通过定制石墨夹具,实现部分遮蔽。
由于在气态环境中镀膜沉积,无法精细遮蔽。
如果不考虑挂具、夹具,通常在1-2内交付。一次CVD镀膜时间通常为10-12小时,不包括前后处理,及镀膜设备维护。