纳狮真空镀膜设备-Naxau IE纳米涂层加工

CVD化学真空镀膜加工

Naxau CVD涂层服务

纳狮CVD化学真空气相沉积涂层服务主要以高硬切削刀具、抗粘黏/冲压成型等模具类为主。Naxau CVD可沉积5微米至20微米厚的涂层,采用TiN,TiCN和α-氧化铝(Al2O3)形成单层或多层膜。CVD沉积工艺通常在900℃以上,10小时镀膜时间,仅针对于耐高温基材。

CVD涂层的优势

纳狮CVD 涂层的典型的工艺温度为为900到1050 °C,因此仅限于高温合金材料,如硬质合金,工具钢,高温合金,陶瓷和石墨等。钢工具基材需要在做完CVD涂层后做热处理,以达到所需的硬度。

 

  • 可涂覆工件内表面
  • 低应力,可做厚膜
  • 高结合力,高负载
  • 优异的涂层均一性
CVD车刀片涂层-黑金刚

数控刀具CVD涂层指南

可以通过后期抛光,将摩擦系数降到0.15。显微硬度(2400-3400HV)。
涂层 涂层说明 膜厚 (μm) 涂层成分 摩擦系数 外观颜色 应用领域
KA TiN 13~17 TiCN+Al2O3+TiN 0.3 金黄色 针对一般钢件
KB TiCN 13~17 TiCN+Al2O3 0.4 黑金刚 灰铸铁、球墨铸铁
KC TiAlN 13~17 TiCN+Al2O3+TiN 0.4 双色 低碳钢、合金钢
KD AlTi基 13~17 TiCN+Al2O3 0.4 孔黄 综合性能高
KE AlTiSi基 9~9 TiCN+Al2O3+TiN 0.3 金黄色 不锈钢等抗粘粘性钢材

CVD涂层金属成型模具应用

  • 拉伸模具
  • 锻造模具
  • 冲压模具
  • 拉丝模具
  • 挤压模具
  • 铸造模具
  • 成型辊
  • 接缝辊
  • 冷镦工具
  • 压接工具
  • 弯管模具
  • 冲棒/冲针

CVD镀膜服务的常见问题

工艺特点 PVD Physical Vapor Deposition CVD Chemical Vapor Deposition
真空度 10-2 to 10-4 mbar 常压或低真空
温度 200-450℃ 900-1050℃
沉积限制 视线法则 气体能接触到的任何表面
镀膜工艺 物理气相沉积 化学气相沉积
膜厚 1-7 μm, 或纳狮定制 5-12 μm, 最大20μm;
基材限制 非真空挥发性 长时间耐高温
表面光洁度 0.03-0.05μm 需抛光处理
后处理 无需热处理 工具钢需后处理调制硬度
边缘构造 无堆边现象 厚膜,可打磨边缘

CVD仅限于耐高温材料,和PVD镀膜一样,为保证涂层的结合力,基材表面光洁无油、无锈。

由于CVD在900℃以上镀膜且为化学气相沉积,因此工件遮蔽更加困难。可以通过定制石墨夹具,实现部分遮蔽。

由于在气态环境中镀膜沉积,无法精细遮蔽。

如果不考虑挂具、夹具,通常在1-2内交付。一次CVD镀膜时间通常为10-12小时,不包括前后处理,及镀膜设备维护。